-
1 химическое осаждение из паровой фазы
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Англо-русский словарь по нанотехнологиям > химическое осаждение из паровой фазы
-
2 chemical vapor deposition
English-russian dictionary of physics > chemical vapor deposition
-
3 chemical vapor plating
English-Russian electronics dictionary > chemical vapor plating
-
4 chemical vapor deposition
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > chemical vapor deposition
-
5 chemical vapor plating
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > chemical vapor plating
-
6 chemical vapor deposition
English-Russian dictionary of microelectronics > chemical vapor deposition
-
7 LPCVD
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > LPCVD
-
8 Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
-
9 MOCVD
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > MOCVD
-
10 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > metal-organic chemical vapor deposition
-
11 APCVD
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > APCVD
-
12 atmospheric pressure chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
13 CVD
вольт-амперная характеристика
Зависимость электрического напряжения на выводах элемента электрической цепи от электрического тока в нем.
[ ГОСТ Р 52002-2003]
[ОАО РАО "ЕЭС России" СТО 17330282.27.010.001-2008]
вольт-амперная характеристика
Зависимость тока от приложенного к элементу электрич. цепи напряжения или зависимость падения напряжения на элементе электрич. цепи от протекающего через него тока. Если сопротивление элемента не зависит от тока, то В.-а. х.—прямая линия, проходящая через начало координат. В.-а. х. нелинейных элементов электрич. цепи (электровакуумные, газоразрядные и твёрдотельные приборы) имеют нелинейные участки и разнообразную форму (N-образные В.-а. х., S-образные и т. п.).
[Физический энциклопедический словарь. М.: «Советская энциклопедия», 1984]
Вольт-амперная характеристика диода
[http://fizika.ayp.ru/4/4_14.html]Тематики
- электротехника, основные понятия
Синонимы
EN
- current versus voltage curve
- current-voltage characteristic
- current-voltage curve
- current-voltage diagram
- current/voltage diagram
- CVD
- E-I characteristic
- natural characteristic
- VI characteristic
- volt-ampere characteristic
- volt-amps diagram
- volt-current plot|voltage-current plot
- volt-current relationship
- voltage-current characteristic
- voltage-current relationship
DE
- I-U-Charakteristik
- I-U-Kennlinie
- Spannungs-Strom-Charakteristik
- Strom-Spannungs-Kennlinie
- Strom-Spannungs-Verhalten
- Stromspannungskennlinie
- U-I-Kennlinie
- Voltamperecharakteristik
FR
химическое осаждение из паровой фазы
Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > CVD
-
14 chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы
Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > chemical vapor deposition
-
15 HDPCVD
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > HDPCVD
-
16 chemical vapor deposition
English-Russian dictionary of electronics > chemical vapor deposition
-
17 chemical vapor plating
English-Russian dictionary of electronics > chemical vapor plating
-
18 atmospheric-pressure chemical vapor deposition
English-Russian big polytechnic dictionary > atmospheric-pressure chemical vapor deposition
-
19 MOCVD
химическое осаждение из паровой фазы методом разложения металлоорганических соединений -
20 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы методом разложения металлоорганических соединенийEnglish-Russian electronics dictionary > metal-organic chemical vapor deposition
См. также в других словарях:
химическое осаждение из паровой фазы — Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление. [http://www.cscleansystems.com/glossary.html]… … Справочник технического переводчика
Химическое осаждение из паровой фазы — 1. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) процесс нанесения внешнего покрытия или покрытия с модификацией поверхности подложки, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика осаждается на нагретую подложку.… … Официальная терминология
химическое осаждение из паровой фазы — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
химическое осаждение из паровой фазы — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений — Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN LPCVDLow Pressure Chemical Vapor Deposition … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — — [А.С.Гольдберг. Англо русский энергетический словарь. 2006 г.] Тематики энергетика в целом EN low pressure chemical vapor depositionLPCVD … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы с плазмой высокой плотности — — [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN HDPCVD … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении — cheminis garinis nusodinimas atmosferos slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. atmospheric pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei atmosphärischem Druck, f rus. химическое… … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… … Radioelektronikos terminų žodynas